东莞市仁睿电子科技有限公司是国内一批电子部件加工供应商。专注PMMA/PC材料注塑、渐变、加硬（硅化）、印刷、光学镀膜等整套工艺十五年。

光学镀膜技术:

亚波长结构化表面

小于光波长的表面结构已成为光学界的一门研究课题，其灵感来自于飞蛾眼睛上的纹理图案。表面纹理化仍然是一种发展中的技术，与传统的薄膜镀膜交替沉积高折射率材料和低折射率材料不同的是，它需要改变基片表面的结构。

纹理表面上的特征可以是随机的或周期性的，手机壳光学镀膜工艺，犹如飞蛾眼睛的图案。对于亚波长结构化表面的制造，如果想要周期性的图案，我们可以采用光刻法，如果想要随机的图案，手机壳光学镀膜，我们可以采用改进的等离子体蚀刻。

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光学镀膜基本原理

光学零件表面镀膜后，光在膜层层上多次反射和透射，形成多光束干涉，手机壳光学镀膜加工厂，控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。

光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃)；而较先进的技术，手机壳光学镀膜加工，如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。IAD工艺不但生产比常规镀膜工艺具有更好物理特性的薄膜，而且可以应用于塑料制成的基底。

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手机壳光学镀膜薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发，或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量，传统蒸发中原子的能量仅约0.1eV。IAD沉积导致电离化蒸汽的直接沉积并且给正在生长的膜增加活化能，通常为50eV量级。离子源将束流从离子枪指向基底表面和正在生长的薄膜来改善传统电子束蒸发的薄膜特性。