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真空镀膜主要利用辉光放电将ya气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的亚气离子化, 造成靶与亚气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电将亚气离子撞击靶材表面。








真空镀膜PVD前与PVD镀膜后的区别是什么?PVD真空镀膜应用范围广,机械设备、电子器件、五金、航天航空、化工厂等制造行业都可以用到,那么,真空镀膜PVD前与PVD镀膜后的区别是什么?为什么那么多的人选择PVD真空镀膜。

1.产品经过镀膜后,会在产品表面形成一种保护膜,降低腐蚀,增加耐磨性,抗击产品的老化问题。

2.真空镀层能够更改商品的外型,颜色,以及色泽,考虑顾客的要求,如金属材料真空泵镀层可以是金色的。




真空镀膜机是蒸发镀铝的设备。成膜速度快,成膜性强,色泽鲜艳,不易污染。电镀设备可获得纯度高、膜厚均匀、致密、无废液和废水,真空镀膜机设备应用广泛,主要应用于汽车反光网、工艺品、首饰、鞋帽、挂钟、灯具、装饰等行业。主要由真空室、排气系统、蒸发系统和电气设备组成。

因此,排气系统不仅要在短时间内以低压保证快速的工作循环,而且还需要快速清除气体的蒸发源和蒸发工件的表面。蒸发系统包括电气设备和加热蒸发源。