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光学镀膜技术:等离子体溅射

等离子体溅射是一系列技术的总称，例如等离子体溅射和磁控管溅射。不管是哪种技术，都包括等离子体的产生。

等离子体中的离子经加速射入源材料中，撞击松散的能量源离子，然后溅射到目标光学元件上。虽然不同类型的等离子体溅射具有其独特的性质和优缺点，不过我们可以将这些技术集合在一起，光学镀膜价格，因为它们具有共同的工作原理，它们之间的差异，相比这种镀膜技术与本文中涉及的其他镀膜技术之间的差异小得多。

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滤光片简介：

用来选取所需辐射波段的光学器件，滤光片的一个共性，就是没有任何滤光片能让天体的成像变得更明亮，因为所有的滤光片都会吸收某些波长，从而使物体变得更暗。

滤光片原理：

滤光片是塑料或玻璃片再加入特种染料做成的，红色滤光片只能让红光通过，如此类推，玻璃片的透射率原本与空气差不多，所有色光都可以通过，所以是透明的，但是染了染料后，分子结构变化，光学镀膜加工，折射率也发生变化，对某些色光的通过就有变化了，比如一束白光通过蓝色滤光片，射出的是一束蓝光，而绿光、红光很少，大多数被滤光片吸收了。

滤光片特点：

其主要特点是尺寸可做得相当大，光学镀膜厂家，薄膜滤光片，光学镀膜，一般透过的波长较长，多用做红外滤光片，后者是在一定片基，用真空镀膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金属-介质-金属膜，或全介质膜，构成一种低级次的﹑多级串联实心法布里，膜层的材料﹑厚度和串联方式的选择，由所需要的中心波长和透射带宽λ确定。

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镀膜工艺：抽真空主系统由两个低温泵组成。电子束蒸发、IAD沉积、光控、加热器控制、抽真空控制和自动过程控制的控制模块都在镀膜机的前面板上。装配在高真空镀膜机基板上的硬件布局。两个电子枪源位于基板两边，周围是环形罩并被挡板覆盖。离子源位于中间，光控窗口在离子源的前方出真空室的顶部，真空室里有含6个圆形夹具的行星系统。夹具用于放置被镀膜的光学元件。使用行星系统是保证被蒸发材料在夹具区域内均匀分布的选择方法。夹具绕公共轴旋转，同时绕其自身轴旋转。光控和晶控处于行星驱动机械装置的中部，驱动轴遮挡晶控。背面的大开口通向附加的高真空泵。基底加热系统由4个石英灯组成，真空室的两边各两个。