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东莞仁睿电子(图)-AF抗指纹电镀加工-AF抗指纹电镀

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信息详情
光学镀膜是一种在光学元件表面上涂覆一层薄膜的技术。这层薄膜通常由多个不同材料的薄层组成,用于改变光线的传播和反射特性。光学镀膜可以用于控制光的透射、反射、吸收和偏振等特性,以满足特定的光学需求。

预处理:在进行镀膜之前,可能需要进行一些预处理步骤来改善镀膜的附着性和均匀性。这些步骤可能包括表面活化、脱脂、去氧化或使用特定的化学涂层剂等。

  3. 镀液制备:根据要求的镀膜类型和材料,制备合适的镀液。镀液通常包括金属离子、添加剂和用于调控镀液pH值的溶液。










  真空镀膜加工是一种常见的表面处理工艺,用于在物体表面形成具有特定功能或美观效果的薄膜涂层。下面介绍几种常见的真空镀膜加工工艺。 磁控溅射:磁控溅射是通过电弧放电或高频等方式,在真空环境中将目标材料溅射到基材表面形成薄膜。在磁控溅射中,通过磁场产生电子漩涡(电子陷阱),使得目标材料离子化并溅射到基材上。磁控溅射可以实现多种材料的镀膜,具有较高的薄膜质量和均匀性。

单层膜厚度

  在单层反射镀膜中,膜厚度的精度是关键因素。膜层的厚度通常在0.1 ~ 2微米之间,具体厚度取决于光学元件的应用。如果满足需要的反射或透射波长,则反射和透射率将化。

蒸发源选择:选择适合镀膜的蒸发源材料。通常使用金属或氧化物,例如铝、银、二氧化硅等。选择材料的种类和厚度取决于所需的光学性能。蒸发:在真空环境中,将蒸发源加热到足够高的温度,使得蒸发源材料蒸发成气态。蒸发的材料会沉积在器件表面上形成薄膜