厚街表面镀膜-仁睿电子(推荐商家)-表面镀膜价钱
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常见的光学镀膜材料有以下几种:二氧化硅材料特点:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好。纯度高,用其制备高质量Si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃);而较先进的技术,如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。

与蒸发沉积不同,原子层沉积 (ALD) 的源材料不需要从固体中蒸发,而是直接以气体的形式提供。尽管使用了气体,但在真空室中仍然经常使用高温。在 ALD 过程中,前体以非重叠脉冲的形式传递,每个脉冲都具有自限性。该过程的化学设计使得只有一个单一的层可以依附每个脉冲,表面的几何形状不是限制因素。由此可对层厚度和设计实现非凡的控制。

温度范围:20-300℃。
厚度:150毫米。
镀膜种类:增透膜,宽带增透膜,介质高反膜,金属反射膜,金属加强膜,金属导电膜,透明导电膜,前截止膜,后截止膜,偏振膜,增透+防水膜,高反+防水膜等等。
其他内容:透镜、棱镜、窗口片冷加工、胶合、中红外加工等。
则会造成该特定波长的反射光有相消的效应,因此反射光的颜色会改变。