在真地面制备膜层，包含镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。固然化学汽相堆积也采纳减压、高压或等离子体等真空手腕，但一样平常真空镀膜是指用物理的办法堆积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
蒸发镀膜
经由过程加热蒸发某种物资使其堆积在固体外面，称为蒸发镀膜。这类办法由M.法拉第于1857年提出，当代已成为罕用镀膜技巧之一。
金属(合金)类:锗、铬、铝、银、金等.
①锗
稀有金属,无毒无性,主要用于半导体工业塑料工业,红外光学器件,航天工业,光纤通讯等.透光范围2000NM--- 14000NM,n=4甚至更大.
铬
有时用在分光镜上并且通常用作"胶质层"来增强附着力,胶质层可能在550NM的范围内,但在铝镜膜导下面,30NM是增强附着力的有效值.
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