电镀加工-电镀加工供应商-仁睿电子科技有限公司
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夹具绕公共轴旋转，同时绕其自身轴旋转。光控和晶控处于行星驱动机械装置的中部，驱动轴遮挡晶控。背面的大开口通向附加的高真空泵。基底加热系统由4个石英灯组成，真空室的两边各两个。对于光学薄膜，填充密度通常为0.75～1.0，部分为0.85～0.95，很少达到1.0。小于l的填充密度使所蒸发材料的折射率低于其块料的折射率。
与PVD相比，ALD的沉积率通常较低。但ALD制备工艺可通过大批量的产能来进行弥补。Beneq P400A 经过优化，可在批量生产中以更快的生长速度沉积高保形厚膜。为工业规模生产设计的原子层沉积系统。它们是从研发阶段到大规模的工业化生产的理想工具。将等离子体增强原子层沉积（PEALD) 工艺提升到一个全新的水平 — 将 PEALD 应用于大批量生产。
汽化相对温和的性质会生成松散或多孔的镀膜。这些松散的镀膜存在吸水问题，这会改变层的有效折射率并导致性能下降。蒸发沉积过程中不能控制蒸发，因此不能像使用离子束溅射等其他技术那样控制层厚度。不过，这些松散的镀膜的优点是它们相对来说没有压力。使用离子束辅助沉积（IBAD 或 IAD）可以增强蒸发镀膜，离子束直接作用于基片表面，增加源材料与表面的粘附能量，并生成更致密、更坚固的镀膜。
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