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真空电镀即真空蒸发镀膜﹐其道理是在高度真空条件下(1.3×10-2~1.3×10-1Pa)使金属铝片受热蒸发并附于(塑料)工件外面﹐构成一层金属膜的办法﹒***真空电镀的特色:1>真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一样平常為0.01~0.1um),可以或许严厉出啤件外面的外形﹒2>事情电压不是很高(200V)﹐操纵便利﹐但装备较低廉﹒3>蒸镀锅瓶容积小﹐电镀件出数少﹐生產效力较低﹒4>








薄膜吸收的潮气取代微孔和空隙,造成薄膜的折射率升高。由于薄膜的物理厚度保持不变,这种折射率升高伴有相应的光学厚度的增加,反过来造成薄膜光谱特性向长波方向的漂移。由空气进入镀膜后再进入玻璃穿透率=[ 4×1.0×1.5 / ( 1+1.5 )2] × [ 4×1.5×1.8 / ( 1.5+1.8 )2]=95.2%可是我们若能在镀膜的厚度上下点功夫,会发现反射光A与反射光B相差 nc×2D 的光程差。

在离子束溅射 (IBS) 过程中,利用高能电场加速离子束(图 5)。这一加速度会给离子提供显著的动能 (~10-100 eV)。当源材料受到冲击时,源材料离子从目标“溅射”,并在与光学表面接触后形成致密膜。以其精度和可重复性著称,是激光光学镀膜的镀膜沉积技术。IBS的缺点是,成本比其他技术更高,因为在光元件中产生了更长的周期时间和应力,这可能导致变形和光学畸变。