塑料AF镀膜订做-云南塑料AF镀膜-仁睿电子科技有限公司
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薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发,或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量,传统蒸发中原子的能量仅约0.1eV。如果蒸发沉积的原子在基底表面的迁移率低,则薄膜会含有微孔。当薄膜暴露于潮湿的空气时,这些微孔逐渐被水汽所填充。因而,折射率是蒸发材料在真空中的折射率,而不是暴露于潮湿空气中的材料折射率。

我们已经知道透光度与镀膜的折射率有关,但是却无关于它的厚度。可是我们若能在镀膜的厚度上下点功夫,会发现反射光A与反射光B相差 nc×2D 的光程差。
镀膜常用设备:电子束蒸发、热蒸发。
常用镀膜材料:氧化、氧化铝、氧化铪、ITO、一氧化硅,二氧化硅、五氧化二钽、五氧化二铌、氧化钛、金、银、铜、铬、铬镍合金、铝、钛。
温度范围:20-300℃。

光学镀膜(Optical coating)或薄膜镀膜(film coating)是对玻璃、镜子、电脑屏幕、光纤元件等产品进行金属镀膜的一种制造工艺。对光学涂层有不同类型的要求。在某些情况下,例如在镜子中,期望的效果是产生具有高反射率的产品。通过选择具有相反折射率的材料并堆叠它们,对于显微镜或相机中使用的镜头,光学涂层用于折射光线,而不是反射光线。