在真地面制备膜层，包含镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。固然化学汽相堆积也采纳减压、高压或等离子体等真空手腕，但一样平常真空镀膜是指用物理的办法堆积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
蒸发镀膜
经由过程加热蒸发某种物资使其堆积在固体外面，称为蒸发镀膜。这类办法由M.法拉第于1857年提出，当代已成为罕用镀膜技巧之一。
温度范围：20-300℃。
厚度：150毫米。
镀膜种类：增透膜，宽带增透膜，介质高反膜，金属反射膜，金属加强膜，金属导电膜，透明导电膜，前截止膜，后截止膜，偏振膜，增透+防水膜，高反+防水膜等等。
其他内容：透镜、棱镜、窗口片冷加工、胶合、中红外加工等。
则会造成该特定波长的反射光有相消的效应，因此反射光的颜色会改变。
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