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TPU光学镀膜厂-望牛墩TPU光学镀膜-仁睿电子科技

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光学镀膜理论要理解光学镀膜,就必须理解折射和反射的菲涅耳方程。折射是波从一种光学介质传播到另一种介质时传播方向的变化,它受斯涅尔折射定律决定:

(1)n1sinθ1=n2sinθ2n1sin⁡θ1=n2sin⁡θ2

其中,n1 是入射媒介的折射率,θ1 是入射光线的角度,n2 是折射/反 射介质的指数,θ2 是折射/反射光线的角度










在离子束溅射 (IBS) 过程中,利用高能电场加速离子束(图 5)。这一加速度会给离子提供显著的动能 (~10-100 eV)。当源材料受到冲击时,源材料离子从目标“溅射”,并在与光学表面接触后形成致密膜。以其精度和可重复性著称,是激光光学镀膜的镀膜沉积技术。IBS的缺点是,成本比其他技术更高,因为在光元件中产生了更长的周期时间和应力,这可能导致变形和光学畸变。

薄膜沉积(镀膜)是在基底材料上形成和沉积薄膜涂层的过程,在基片上沉积各种材料的薄膜是微纳加工的重要手段之一,薄膜具有许多不同的特性,可用来改变或改善基材性能的某些要素。光学镀膜何原理?工艺是否合格呢?光学镀膜用于增强光学组件的透射、反射或偏振特性。例如,每个未镀膜玻璃器件表面将会有大约10%的入射光被反射。采用增透膜可将各表面的反射率降低到 0.1% 以下,采用高反射介电膜可将反射率提高到 99.99% 以上。