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等离子溅射在蒸发沉积和离子束溅射之间实现了价格和性能的折中。离子束溅射 (IBS)在离子束溅射 (IBS) 过程中，利用高能电场加速离子束（图 5）。这一加速度会给离子提供显著的动能 (~10-100 eV)。当源材料受到冲击时，源材料离子从目标“溅射”，并在与光学表面接触后形成致密膜。5 使用 IBS 镀膜而不是蒸发沉积的一个主要优点是能够更地监测和控制单个镀膜的生长速度、能量输入和氧化水平。
在离子束溅射 (IBS) 过程中，利用高能电场加速离子束（图 5）。这一加速度会给离子提供显著的动能 (~10-100 eV)。当源材料受到冲击时，源材料离子从目标“溅射”，并在与光学表面接触后形成致密膜。以其精度和可重复性著称，是激光光学镀膜的镀膜沉积技术。IBS的缺点是，成本比其他技术更高，因为在光元件中产生了更长的周期时间和应力，这可能导致变形和光学畸变。
光学镀膜光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。这些涂层可以显着改变光学元件的达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。光学涂层可以直接应用于光学元件的表面、以调整其反射率等。除此外可以利用材料的特性与多个膜层的配合作用可以达到很多特殊效果。可见有镀膜的玻璃会增加透光度。此外由此公式，我们可以计算光线穿透镜片的两面，发现即使一片的透镜（折射率1.8）
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