与PVD相比，ALD的沉积率通常较低。但ALD制备工艺可通过大批量的产能来进行弥补。Beneq P400A 经过优化，可在批量生产中以更快的生长速度沉积高保形厚膜。
基于丰富的经验和软件，Beneq可根据您的要求针对性地设计ALD膜层结构，以此获得的光学性能。
硅结构测试在硅结构测试中沉积保形的ALD薄膜堆层
温度范围：20-300℃。
厚度：150毫米。
镀膜种类：增透膜，宽带增透膜，介质高反膜，金属反射膜，金属加强膜，金属导电膜，透明导电膜，前截止膜，后截止膜，偏振膜，增透+防水膜，高反+防水膜等等。
其他内容：透镜、棱镜、窗口片冷加工、胶合、中红外加工等。
则会造成该特定波长的反射光有相消的效应，因此反射光的颜色会改变。
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