在真地面制备膜层，包含镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。固然化学汽相堆积也采纳减压、高压或等离子体等真空手腕，但一样平常真空镀膜是指用物理的办法堆积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
蒸发镀膜
经由过程加热蒸发某种物资使其堆积在固体外面，称为蒸发镀膜。这类办法由M.法拉第于1857年提出，当代已成为罕用镀膜技巧之一。
光学镀膜理论要理解光学镀膜，就必须理解折射和反射的菲涅耳方程。折射是波从一种光学介质传播到另一种介质时传播方向的变化，它受斯涅尔折射定律决定：
(1)n1sinθ1=n2sinθ2n1sinθ1=n2sinθ2
其中，n1 是入射媒介的折射率，θ1 是入射光线的角度，n2 是折射/反 射介质的指数，θ2 是折射/反射光线的角度
在离子束溅射 (IBS) 过程中，利用高能电场加速离子束（图 5）。这一加速度会给离子提供显著的动能 (~10-100 eV)。当源材料受到冲击时，源材料离子从目标“溅射”，并在与光学表面接触后形成致密膜。以其精度和可重复性著称，是激光光学镀膜的镀膜沉积技术。IBS的缺点是，成本比其他技术更高，因为在光元件中产生了更长的周期时间和应力，这可能导致变形和光学畸变。
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