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手机保护套光学镀膜-东莞市仁睿电子科技

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离子镀 蒸发物资的份子被电子碰撞电离后以离子堆积在固体外面,称为离子镀。这类技巧是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技巧的联合。一种离子镀体系如图4[离子镀体系示意图],将基片台作为阴极,外壳作阳极,充入惰性气体(如)以发生辉光放电。从蒸发祥蒸发的份子经由过程等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加快打到基片外面。未电离的中性原子(约占蒸发料的95%)也堆积在基片或真空室壁外面。








利用斯涅尔定律,可以找到由不同折射率的平面平行表面组成的多层薄膜镀膜任何位置的光线角度。由于斯涅尔定律适用于每个界面,因此薄膜内光线的内角与薄膜顺序或薄膜在堆栈中的位置无关(2)n1sinθ1=n2sinθ2=n3sinθ3=n4sinθ4n1sin⁡θ1=n2sin⁡θ2=n3sin⁡θ3=n4sin⁡θ4出射光线将与入射光线平行,因为 n1 = n4。由于光学元件的曲率,曲面上的光学镀膜并不是真正的平面平行结构。不过,由于镀膜较薄,这种近似仍然有效。

在离子束溅射 (IBS) 过程中,利用高能电场加速离子束(图 5)。这一加速度会给离子提供显著的动能 (~10-100 eV)。当源材料受到冲击时,源材料离子从目标“溅射”,并在与光学表面接触后形成致密膜。以其精度和可重复性著称,是激光光学镀膜的镀膜沉积技术。IBS的缺点是,成本比其他技术更高,因为在光元件中产生了更长的周期时间和应力,这可能导致变形和光学畸变。