仁睿电子科技(图)-真空光学镀膜厂家-横沥真空光学镀膜
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离子镀 蒸发物资的份子被电子碰撞电离后以离子堆积在固体外面，称为离子镀。这类技巧是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技巧的联合。一种离子镀体系如图4[离子镀体系示意图],将基片台作为阴极，外壳作阳极，充入惰性气体（如）以发生辉光放电。从蒸发祥蒸发的份子经由过程等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加快打到基片外面。未电离的中性原子（约占蒸发料的95％）也堆积在基片或真空室壁外面。
与PVD相比，ALD的沉积率通常较低。但ALD制备工艺可通过大批量的产能来进行弥补。Beneq P400A 经过优化，可在批量生产中以更快的生长速度沉积高保形厚膜。为工业规模生产设计的原子层沉积系统。它们是从研发阶段到大规模的工业化生产的理想工具。将等离子体增强原子层沉积（PEALD) 工艺提升到一个全新的水平 — 将 PEALD 应用于大批量生产。
对光学涂层有不同类型的要求。在某些情况下，例如在镜子中，期望的效果是产生具有高反射率的产品。通过选择具有相反折射率的材料并堆叠它们，可以增加成品中的反射率。对于廉价的反射镜，典型的光学镀膜材料是铝镀膜玻璃。由于银会反射更多的光，像银这样更昂贵的涂层将导致更昂贵的镜子的制造，从而具有更高的质量。真空光学镀膜真空光学镀膜
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