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稳定的光学性能要求高度均匀性的薄膜材料。根据光学性能要求,典型的膜层厚度均匀性要求在1%左右。与PVD不同,ALD镀膜无论对于纳米结构的微观层面或任意形状光学器件的宏观层面,都是理想的镀膜解决方案。由于ALD通过饱和化学反应形成单一膜层,因此您可以原子级精度调整光学材料特性。这为工业量产化提供了出色的可重复性且能有效地控制膜层厚度。

光学镀膜理论要理解光学镀膜,就必须理解折射和反射的菲涅耳方程。折射是波从一种光学介质传播到另一种介质时传播方向的变化,它受斯涅尔折射定律决定:
(1)n1sinθ1=n2sinθ2n1sinθ1=n2sinθ2
其中,n1 是入射媒介的折射率,θ1 是入射光线的角度,n2 是折射/反 射介质的指数,θ2 是折射/反射光线的角度

利用斯涅尔定律,可以找到由不同折射率的平面平行表面组成的多层薄膜镀膜任何位置的光线角度。由于斯涅尔定律适用于每个界面,因此薄膜内光线的内角与薄膜顺序或薄膜在堆栈中的位置无关(2)n1sinθ1=n2sinθ2=n3sinθ3=n4sinθ4n1sinθ1=n2sinθ2=n3sinθ3=n4sinθ4出射光线将与入射光线平行,因为 n1 = n4。由于光学元件的曲率,曲面上的光学镀膜并不是真正的平面平行结构。不过,由于镀膜较薄,这种近似仍然有效。