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基于丰富的经验和软件，Beneq可根据您的要求针对性地设计ALD膜层结构，以此获得的光学性能。与PVD不同，ALD技术无需旋转基底材料。这意味着用更简单的方法就能达到更大的产量。Beneq P400A实现了高均匀度、批量生产和高沉积率的的优化组合。硅结构测试在硅结构测试中沉积保形的ALD薄膜堆层渐变染色加工渐变染色加工渐变染色加工
这种级别的控制能实现高重现性的镀膜批次和的层厚度误差，从而确保镀膜性能与设计的光谱和相位参数一致。5 IBS镀膜比使用其他镀膜技术的镀膜要光滑得多，这使得 IBS 成为一种能够制造出反射率超过99.99% 的“超级镜面”的镀膜技术，而且镀膜的粗糙度也比的基片低。IBS 镀膜的高密度使其坚固耐用，提高了其耐化学性，延长了镀膜的使用寿命，使其能够承受更恶劣的环境。
可以应用于塑料制成的基底。图19.11展示一个操作者正在光学镀膜机前。抽真空主系统由两个低温泵组成。电子束蒸发、IAD沉积、光控、加热器控制、抽真空控制和自动过程控制的控制模块都在镀膜机的前面板上。光学涂层可以直接应用于光学元件的表面、以调整其反射率等。除此外可以利用材料的特性与多个膜层的配合作用可以达到很多特殊效果。
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