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不影响产量的简化选择方案与PVD不同,ALD技术无需旋转基底材料。这意味着用更简单的方法就能达到更大的产量。Beneq P400A实现了高均匀度、批量生产和高沉积率的的优化组合。Beneq ALD工艺技术满足了在复杂3D结构表面均匀沉积薄膜的高保形性。这为任意形状的光学器件、球型透镜、光栅等应用提供了成熟可靠的镀膜方案。








光学镀膜用于增强光学组件的透射、反射或偏振特性。例如,每个未镀膜玻璃器件表面将会有大约10%的入射光被反射。采用增透膜可将各表面的反射率降低到 0.1% 以下,采用高反射介电膜可将反射率提高到 99.99% 以上。光学镀膜由氧化物、金属或稀土材料等薄层材料组成。光学镀膜的性能取决于层数、厚度和不同层之间的折射率差异。

光学镀膜理论要理解光学镀膜,就必须理解折射和反射的菲涅耳方程。折射是波从一种光学介质传播到另一种介质时传播方向的变化,它受斯涅尔折射定律决定:

(1)n1sinθ1=n2sinθ2n1sin⁡θ1=n2sin⁡θ2

其中,n1 是入射媒介的折射率,θ1 是入射光线的角度,n2 是折射/反 射介质的指数,θ2 是折射/反射光线的角度