东坑精密光学镀膜-仁睿电子(在线咨询)-精密光学镀膜工厂
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不同镀膜技术的比较 (IAD：离子辅助沉积，IBS：离子束溅射，ALD：原子层沉积)蒸发沉积在蒸发沉积过程中，真空室中的源材料通过加热或电子束轰击进行蒸发。在蒸发过程中，蒸汽冷凝到光学表面并控制加热、真空压力、基片定位和旋转，使特定设计厚度的光学镀膜保持均匀。与本部分所述的其他技术相比，蒸发沉积可以容纳更大的镀膜机尺寸，而且通常更经济有效。
真空镀膜:真空镀膜主要是指需要在更高真空下进行的涂料,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等多种涂料,所以,蒸发和溅射有两种主要类型.将被镀材料制成基材,将电镀材料用作靶材或药材.衬底处于与靶相同的真空中.光学薄膜的特点是:表面光滑,膜层之间的界面呈几何分割,膜层的折射率在界面上可以发生跃变,但在膜层内是连续的,可以是透明介质,也可以是光学薄膜
典型的光学镀膜材料是铝镀膜玻璃。由于银会反射更多的光，像银这样更昂贵的涂层将导致更昂贵的镜子的制造，从而具有更高的质量。光学涂层用于折射光线，而不是反射光线。这就是所谓的电介质涂层，它不仅用于消费者，也用于科学设备，如望远镜和激光。他们设计了这样的产品，如无反射的计算机屏幕、航天飞机的窗户和钱德拉X射线望远镜的镜子。
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