溅射原子在基片外面堆积成膜。与蒸发镀膜分歧，溅射镀膜不受膜材熔点的限定,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物资。溅射化合物膜可用反响溅射法，行将反响气体份子束内涵法普遍用于制作各类光集成器件和各类超晶格布局薄膜。
(O、N、HS、CH等)参加Ar气中,反响气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反响天生化合物（如氧化物、氮化物等）而堆积在基片上。
与PVD相比，ALD的沉积率通常较低。但ALD制备工艺可通过大批量的产能来进行弥补。Beneq P400A 经过优化，可在批量生产中以更快的生长速度沉积高保形厚膜。
基于丰富的经验和软件，Beneq可根据您的要求针对性地设计ALD膜层结构，以此获得的光学性能。
硅结构测试在硅结构测试中沉积保形的ALD薄膜堆层
光学镀膜理论要理解光学镀膜，就必须理解折射和反射的菲涅耳方程。折射是波从一种光学介质传播到另一种介质时传播方向的变化，它受斯涅尔折射定律决定：
(1)n1sinθ1=n2sinθ2n1sinθ1=n2sinθ2
其中，n1 是入射媒介的折射率，θ1 是入射光线的角度，n2 是折射/反 射介质的指数，θ2 是折射/反射光线的角度
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