东莞仁睿电子(图)-精密光学电镀加工-广东精密光学电镀
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光学镀膜的特点是:表面光滑，膜层之间的界面是几何划分的，膜层在界面上的折射率可以发生跳跃，但在膜层是连续的，可以是透明介质，也可以是光学镀膜。其精度往往达到纳米甚至微纳米级别，因此，其制备复杂性不言而喻，有时小的失误会导致完全损失，为镀膜制备带来极大的困难。薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发，或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量，
若是空气的折射率是 1.0 ，镀膜的折射率nc (例如：1.5) ，玻璃的折射率n (例如：1.8)（1）由空气直接进入玻璃穿透率= 4×1.0×1.8 / ( 1+1.8 )2=91.84%IAD工艺不但生产比常规镀膜工艺具有更好物理特性的薄膜，而且可以应用于塑料制成的基底。夹具绕公共轴旋转，同时绕其自身轴旋转。光控和晶控处于行星驱动机械装置的中部，驱动轴遮挡晶控。
出射光线将与入射光线平行，因为 n1 = n4。由于光学元件的曲率，曲面上的光学镀膜并不是真正的平面平行结构。不过，由于镀膜较薄，这种近似仍然有效。1
反射定律表明，反射光线相对于表面法线的角度与入射角大小相等，但相对于表面法线的角度方向相反。
θ1=−θ2θ1=−θ2
如果从一个介质传递到另一个介质且折射率较低的光线的入射角大于由两种折射率的比值定义的材料临界角 (θC)，
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