梅州光学电镀-仁睿电子(在线咨询)-光学电镀供应
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离子镀 蒸发物资的份子被电子碰撞电离后以离子堆积在固体外面,称为离子镀。这类技巧是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技巧的联合。一种离子镀体系如图4[离子镀体系示意图],将基片台作为阴极,外壳作阳极,充入惰性气体(如)以发生辉光放电。从蒸发祥蒸发的份子经由过程等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加快打到基片外面。未电离的中性原子(约占蒸发料的95%)也堆积在基片或真空室壁外面。

常见镀膜种类包含增透膜,宽带增透膜,介质高反膜,金属反射膜,金属加强膜,金属导电膜,透明导电膜,前截止膜,后截止膜,偏振膜,增透+防水膜,高反+防水膜等等。根据产品需求可进行膜层选择。常见选用的镀膜材料一般是氟化镁、二氧化硅、氧化锆等其透光度约为85%左右。若加上一层镀膜(折射率1.5),则透光度可达91%。可见光学镀膜的重要性。

可见有镀膜的玻璃会增加透光度。此外由此公式,我们可以计算光线穿透镜片的两面,发现即使一片的透镜(折射率1.8),其透光度约为85%左右。若加上一层镀膜(折射率1.5),则透光度可达91%。可见光学镀膜的重要性。由于薄膜的物理厚度保持不变,这种折射率升高伴有相应的光学厚度的增加,反过来造成薄膜光谱特性向长波方向的漂移。