东莞仁睿电子科技(图)-精密真空镀膜工艺-精密真空镀膜
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不同镀膜技术的比较 (IAD：离子辅助沉积，IBS：离子束溅射，ALD：原子层沉积)蒸发沉积在蒸发沉积过程中，真空室中的源材料通过加热或电子束轰击进行蒸发。在蒸发过程中，蒸汽冷凝到光学表面并控制加热、真空压力、基片定位和旋转，使特定设计厚度的光学镀膜保持均匀。与本部分所述的其他技术相比，蒸发沉积可以容纳更大的镀膜机尺寸，而且通常更经济有效。
这种级别的控制能实现高重现性的镀膜批次和的层厚度误差，从而确保镀膜性能与设计的光谱和相位参数一致。5 IBS镀膜比使用其他镀膜技术的镀膜要光滑得多，这使得 IBS 成为一种能够制造出反射率超过99.99% 的“超级镜面”的镀膜技术，而且镀膜的粗糙度也比的基片低。IBS 镀膜的高密度使其坚固耐用，提高了其耐化学性，延长了镀膜的使用寿命，使其能够承受更恶劣的环境。
光学镀膜(Optical coating)或薄膜镀膜(film coating)是对玻璃、镜子、电脑屏幕、光纤元件等产品进行金属镀膜的一种制造工艺。与无涂层产品不同，光学涂层使产品能够以不同的方式反射光线。涂层通常是通过使用由技术人员操作的机器来完成的，技术人员对机器过程进行编程或监督。一些机器执行自动化过程，不需要仔细监督。精密真空镀膜精密真空镀膜
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