溅射原子在基片外面堆积成膜。与蒸发镀膜分歧,溅射镀膜不受膜材熔点的限定,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物资。溅射化合物膜可用反响溅射法,行将反响气体份子束内涵法普遍用于制作各类光集成器件和各类超晶格布局薄膜。
(O、N、HS、CH等)参加Ar气中,反响气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反响天生化合物(如氧化物、氮化物等)而堆积在基片上。
温度范围:20-300℃。
厚度:150毫米。
镀膜种类:增透膜,宽带增透膜,介质高反膜,金属反射膜,金属加强膜,金属导电膜,透明导电膜,前截止膜,后截止膜,偏振膜,增透+防水膜,高反+防水膜等等。
其他内容:透镜、棱镜、窗口片冷加工、胶合、中红外加工等。
则会造成该特定波长的反射光有相消的效应,因此反射光的颜色会改变。