宁夏光学电镀-东莞市仁睿电子科技-光学电镀公司
东莞市仁睿电子科技有限公司
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光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃);而较先进的技术,如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。IAD工艺不但生产比常规镀膜工艺具有更好物理特性的薄膜,而且可以应用于塑料制成的基底。填充密度定义为薄膜固体部分的体积与薄膜的总体积(包括空隙和微孔)之比。对于光学薄膜,填充密度通常为0.75~1.0,部分为0.85~0.95,很少达到1.0。小于l的填充密度使所蒸发材料的折射率低于其块料的折射率。

稳定的光学性能要求高度均匀性的薄膜材料。根据光学性能要求,典型的膜层厚度均匀性要求在1%左右。与PVD不同,ALD镀膜无论对于纳米结构的微观层面或任意形状光学器件的宏观层面,都是理想的镀膜解决方案。 ALD工艺技术满足了在复杂3D结构表面均匀沉积薄膜的高保形性。这为任意形状的光学器件、球型透镜、光栅等应用提供了成熟可靠的镀膜方案。将等离子体增强原子层沉积(PEALD) 工艺提升到一个全新的水平 — 将 PEALD 应用于大批量生产。

光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层 吸收介质:可以是法向均匀的,也可以是法向不均匀的,实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多,这是因为,制备时,薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料,膜层之间的相互渗透形成扩散界面,由于膜层的生长、结构、应力等原因,形成了薄膜的各向异性,膜层具有复杂的时间效应.形成了薄膜的各向异性,膜层具有复杂的时间效应.