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溅射镀膜
用高能粒子轰击固体外面时能使固体外面的粒子得到能量并逸出外面,堆积在基片上。溅射征象于1870年开始用于镀膜技巧,1930年今后因为进步了堆积速率而渐渐用于工业生产。罕用的二极溅射装备如图3[
二极溅射示意图]。平日将欲堆积的资料制成板材--靶,牢固在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。体系抽至高真空后充入
10~1帕的气体(平日为气),在阴极和阳极间加几千伏电压,南北极间即发生辉光放电。

常见的光学镀膜材料有以下几种:二氧化硅材料特点:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好。纯度高,用其制备高质量Si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃);而较先进的技术,如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。

若是空气的折射率是 1.0 ,镀膜的折射率nc (例如:1.5) ,玻璃的折射率n (例如:1.8)(1)由空气直接进入玻璃穿透率= 4×1.0×1.8 / ( 1+1.8 )2=91.84%IAD工艺不但生产比常规镀膜工艺具有更好物理特性的薄膜,而且可以应用于塑料制成的基底。夹具绕公共轴旋转,同时绕其自身轴旋转。光控和晶控处于行星驱动机械装置的中部,驱动轴遮挡晶控。