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真空电镀即真空蒸发镀膜﹐其道理是在高度真空条件下（1.3×10-2~1.3×10-1Pa）使金属铝片受热蒸发并附于（塑料）工件外面﹐构成一层金属膜的办法﹒***真空电镀的特色:1>真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一样平常為0.01~0.1um),可以或许严厉出啤件外面的外形﹒2>事情电压不是很高（200V）﹐操纵便利﹐但装备较低廉﹒3>蒸镀锅瓶容积小﹐电镀件出数少﹐生產效力较低﹒4>
夹具绕公共轴旋转，同时绕其自身轴旋转。光控和晶控处于行星驱动机械装置的中部，驱动轴遮挡晶控。背面的大开口通向附加的高真空泵。基底加热系统由4个石英灯组成，真空室的两边各两个。对于光学薄膜，填充密度通常为0.75～1.0，部分为0.85～0.95，很少达到1.0。小于l的填充密度使所蒸发材料的折射率低于其块料的折射率。
为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。随着激光技术的发展，对膜层的反射率和透过率有不同的要求，而且可以应用于塑料制成的基底。图19.11展示一个操作者正在光学镀膜机前。抽真空主系统由两个低温泵组成。电子束蒸发、IAD沉积、光控、加热器控制、抽真空控制和自动过程控制的控制模块都在镀膜机的前面板上。
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