光学镀膜在沉积过程中，每一层的厚度均由光学或石英晶体监控。这两种技术各有优缺点，这里不作讨论。其共同点是材料蒸发时它们均在真空中使用，因而，折射率是蒸发材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮湿空气中的材料折射率。薄膜吸收的潮气取代微孔和空隙，造成薄膜的折射率升高。光学镀膜材料常见的光学镀膜材料有以下几种:氟化镁材料特点:无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。二氧化硅材料特点:无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。工艺品渐变加工


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