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光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜,一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率,以满足不同的需要。光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃);而较先进的技术,如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。护目镜雾化








光学镀膜的光学薄膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质薄层。在这种情况下,可以用光的干涉理论来研究光学薄膜的光学性质。采用减反射膜后可使复杂的光学镜头的光通量损失成十倍地减小,采用高反射比的反射镜可使激光器的输出功率成倍提高,利用光学薄膜可提高硅光电池的效率和稳定性。学薄膜的特点是:表面光滑,膜层之间的界面呈几何分割,膜层的折射率在界面上可以发生跃变,但在膜层内是连续的,可以是透明介质,也可以是光学薄膜护目镜雾化

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