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镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜,或镀一层金属膜,目的是改变材料表面的反射和透射特性。光学镀膜在沉积过程中,每一层的厚度均由光学或石英晶体监控。这两种技术各有优缺点,这里不作讨论。其共同点是材料蒸发时它们均在真空中使用,因而,折射率是蒸发材料在真空中的折射率,而不是暴露于潮湿空气中的材料折射率。光学镀膜基本原理光的干涉在薄膜光学中广泛应用。AF处理

光学镀膜由薄的分层介质构成的,通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代,光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域,制造各种光学仪器。简单的光学薄膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质薄层。在这种情况下,可以用光的干涉理论来研究光学薄膜的光学性质。
光学薄膜的特点是:表面光滑,膜层之间的界面呈几何分割,膜层的折射率在界面上可以发生跃变,但在膜层内是连续的,可以是透明介质,也可以是光学薄膜
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我们都知道金属表面喷漆是一种保护金属不被氧化腐蚀的方法。良好的喷漆涂装保护层保持连续完整无损,结合良好,能够成为舒缓腐蚀介质侵入的屏障。可是当我们遇到金属喷漆附着力不好时,我们该怎么办呢?镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜,目的是改变材料表面的反射和透射特性。对于CO2激光灯中红外线波段,常用的镀膜材料有硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆等。光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜,一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率,以满足不同的需要。光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃);而较先进的技术,如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。AF处理