光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃);而较先进的技术，如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发，或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量，传统蒸发中原子的能量仅约0.1eV。薄膜的光学性质，如折射率、吸收和激光损伤阈值，主要依赖于膜层的显微结构。薄膜材料、残余气压和基底温度都可能影响薄膜的显微结构。办公文具渐变加工


光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在可见光和红外线波段范围内，大多数金属的反射率都可达到78%~98%，但不可高于98%。对于YAG激光采用普通光学玻璃作为反射镜、输出镜和透射光学元件材料，都不能达到全反射镜的99%以上要求。不同应用时输出镜有不同透过率的要求，因此必须采用光学镀膜方法。提高成像质量，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。随着激光技术的发展，对膜层的反射率和透过率有不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。办公文具渐变加工

光学镀膜已成为大部分光学产品不可或缺的一道工艺，薄膜通过干涉光的透过率、波段、折射率等参数来修正光学产品自身材质所带来的天然不足。镀膜的应用从日常的眼镜、手机相机、家电用品，到领域的相机镜头、仪器镜头，一些防伪技术等。近代光电、通讯、镭射等技术也是基于光学镀膜技术为基础才能发展到水平。镀膜技术发展到现在阶段，决定镀膜成败的往往是基材自身的洁净程度以及前后工序对材料整体的影响，例如基材带油墨进行镀膜。所以镀膜前对基材的清洗就显得尤为关键。办公文具渐变加工