磁控溅射真空镀膜机运作就是通过真空状态下正交磁场是电子轰击亚气形成的亚离子再轰击靶材,靶材离子沉积于工件表面成膜。
真空状态就需要抽气系统来进行控制,每个抽气口都要同时开动并力度一致,这样就能控制好抽气的均匀性,如果抽气不均匀,在真空室内的压强就不能均匀了,压强对离子的运动是存在一定的影响的。另外抽气的时间也要控制,太短会造成真空度不够,但太长又浪费资源,不过有真空计的存在,要控制好还是不成问题的。
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在元件方面,在光学镀膜,铬或金属陶瓷可以制造电阻,在塑料光学镀膜上蒸发铝、一氧化硅、二氧化钛等可以制造电容器,蒸发硒可以得到静电复印机用的硒鼓、蒸发钛酸钡可以制造磁致伸缩的起声元件等等。