原来磁场强弱虽不好进行控制,但同时工件也在同时运转,且是靶材原子多次沉积此案结束镀膜工序,在一段时间内虽然某些部位厚,某些部位薄,但另一个时间内,磁场强的作用下在原来薄的部位沉积上厚的,在厚的部位沉积上薄的,如此多次,整个膜层成膜后,均匀性还是比较不错的。
亚气的送气均匀性也会对膜层均匀性产生影响,其原理实际上和真空度差不多,因为亚气的进入,真空室内压强会产生变化,均匀的压强大小可以控制成磁控溅射真空镀膜机膜厚度的均匀性。
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光学镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,便激发辉光放电,带正电的离子撞击阴极。