原来磁场强弱虽不好进行控制,但同时工件也在同时运转,且是靶材原子多次沉积此案结束镀膜工序,在一段时间内虽然某些部位厚,某些部位薄,但另一个时间内,磁场强的作用下在原来薄的部位沉积上厚的,在厚的部位沉积上薄的,如此多次,整个膜层成膜后,均匀性还是比较不错的。
亚气的送气均匀性也会对膜层均匀性产生影响,其原理实际上和真空度差不多,因为亚气的进入,真空室内压强会产生变化,均匀的压强大小可以控制成磁控溅射真空镀膜机膜厚度的均匀性。
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随着光学镀膜技术的发展,对膜层的反射率和透过率有不同的要求,促进了多层高反射膜和宽带光学镀膜的发展。为各种应用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。