磁控溅射真空镀膜机运作就是通过真空状态下正交磁场是电子轰击亚气形成的亚离子再轰击靶材,靶材离子沉积于工件表面成膜。
真空状态就需要抽气系统来进行控制,每个抽气口都要同时开动并力度一致,这样就能控制好抽气的均匀性,如果抽气不均匀,在真空室内的压强就不能均匀了,压强对离子的运动是存在一定的影响的。另外抽气的时间也要控制,太短会造成真空度不够,但太长又浪费资源,不过有真空计的存在,要控制好还是不成问题的。
真空镀膜机是蒸发镀铝的设备。成膜速度快,成膜性强,色泽鲜艳,不易污染。电镀设备可获得纯度高、膜厚均匀、致密、无废液和废水,真空镀膜机设备应用广泛,主要应用于汽车反光网、工艺品、首饰、鞋帽、挂钟、灯具、装饰等行业。主要由真空室、排气系统、蒸发系统和电气设备组成。
因此,排气系统不仅要在短时间内以低压保证快速的工作循环,而且还需要快速清除气体的蒸发源和蒸发工件的表面。蒸发系统包括电气设备和加热蒸发源。
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光学镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法。如果从光学镀膜的目的是为了改变物质表面的物理、化学性能的话,这一技术又是真空表面处理技术中的重要组成部分。