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靶材输入电流及溅射时间可以控制,容易得到高精度的膜厚。较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。溅射粒子几不受重力影响,靶材与基板位置可自由安排。基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上,且由于溅射粒子带有高能量,在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜,同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜。薄膜形成初期成核密度高,可生产10nm以下的极薄连续膜。靶材的寿命长,可长时间自动化连续生产。靶材可制作成各种形状,配合机台的特殊设计做更好的控制及比较有效率的生产。








真空电镀大家应该都有一定的了解,它主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型,它们都是采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜,通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层,同时具有速度快附着力好的突出优点。

正是由于这些优点,所以真空电镀设备的应用非常广泛,如在ABS料、ABS+PC料、PC料,家用电器、化妆品包装等产品上都有着不错的应用。同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高,单价比水电镀昂贵.


真空镀膜机是蒸发镀铝的设备。成膜速度快,成膜性强,色泽鲜艳,不易污染。电镀设备可获得纯度高、膜厚均匀、致密、无废液和废水,真空镀膜机设备应用广泛,主要应用于汽车反光网、工艺品、首饰、鞋帽、挂钟、灯具、装饰等行业。主要由真空室、排气系统、蒸发系统和电气设备组成。

因此,排气系统不仅要在短时间内以低压保证快速的工作循环,而且还需要快速清除气体的蒸发源和蒸发工件的表面。蒸发系统包括电气设备和加热蒸发源。