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真空镀膜主要利用辉光放电将ya气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的亚气离子化, 造成靶与亚气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电将亚气离子撞击靶材表面。
原来磁场强弱虽不好进行控制，但同时工件也在同时运转，且是靶材原子多次沉积此案结束镀膜工序，在一段时间内虽然某些部位厚，某些部位薄，但另一个时间内，磁场强的作用下在原来薄的部位沉积上厚的，在厚的部位沉积上薄的，如此多次，整个膜层成膜后，均匀性还是比较不错的。
亚气的送气均匀性也会对膜层均匀性产生影响，其原理实际上和真空度差不多，因为亚气的进入，真空室内压强会产生变化，均匀的压强大小可以控制成磁控溅射真空镀膜机膜厚度的均匀性。
模具镀钛具有很强的通用性，模具镀钛具有广泛的通用性和显著扩大的加工范围。可以使用模具镀钛工具来代替几种未涂层工具，从而大大减少工具的种类和库存，简化工具管理并降低工具和设备的成本。模具镀钛通常以与未涂层硬质合金和高速钢相同或更高的切削速度使用，目的是增多刀具寿命。由于对基体的限制更少，损坏更少，它特别适用于要求耐磨性和抗碎裂性的切削工具，以及要求锋利切削刃的低进给加工和精加工或螺纹加工工具。
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